C’è una macchina al mondo che solo l’olandese ASML sa costruire. Pesa circa 180 tonnellate, contiene oltre centomila componenti e per essere trasportata richiede quaranta container marittimi o, in alternativa, tre Boeing 747 cargo o una flotta di venti camion. Viene prodotta a Veldhoven, nei Paesi Bassi, da un’azienda fondata nel 1984 come joint venture tra Philips e ASM International. Si chiama TWINSCAN NXE, costa circa 250 milioni di dollari per unità e senza di essa la produzione industriale dei chip logici più avanzati, ai nodi più avanzati, diventa estremamente difficile. La storia della geopolitica dei semiconduttori, nei suoi passaggi più acuti, è in larga misura la storia di quella macchina.
ASML è oggi l’unico produttore al mondo di sistemi di litografia a ultravioletti estremi, gli EUV. Nel 2025 ha installato 48 sistemi EUV; per il 2026 e il 2027 il gruppo prevede un’ulteriore crescita, trainata anche dai sistemi high-NA EUV, con un prezzo unitario che si colloca intorno ai 380 milioni di dollari. Secondo i dati diffusi dall’azienda, centinaia di macchine EUV sono ormai operative nelle fab di tutto il mondo; la quota principale dei ricavi EUV proviene dalla Corea del Sud, seguita da Taiwan e Stati Uniti. La Cina non ne ha nessuna. Non perché non le voglia: il blocco alle esportazioni EUV verso Pechino è in vigore dal 2019, inizialmente sotto forte pressione americana e poi formalizzato dal governo olandese.
La geometria del monopolio
Capire perché ASML sia diventata l’epicentro della guerra tecnologica tra Washington e Pechino richiede un passo indietro nella fisica. La litografia EUV usa luce con lunghezza d’onda di 13,5 nanometri, generata per colpire goccioline di stagno fuso iniettate in una camera a vuoto a ritmi elevatissimi, con il fine di incidere circuiti su wafer di silicio con livelli di precisione estremi. Non è solo ingegneria: è fisica del plasma, ottica di precisione, meccanica delle vibrazioni portata a tolleranze estremamente ridotte. Secondo il CEO di ASML Christophe Fouquet, il divieto di esportazione EUV verso la Cina potrebbe ritardare in modo sostanziale le capacità produttive cinesi nei chip più avanzati. È una valutazione che Washington condivide e su cui ha impostato gran parte della propria strategia di controllo tecnologico.
Il problema, per Washington, è che la stretta sull’EUV non ha chiuso del tutto la via cinese all’avanzamento tecnologico. ASML produce anche macchine DUV, litografia a ultravioletti profondi, una generazione precedente, ma ancora cruciale, che fino a oggi le fabbriche cinesi hanno potuto acquistare in misura significativa. La domanda cinese di sistemi DUV è rimasta forte, utilizzata da SMIC e Hua Hong per produrre chip a nodo maturo come quelli basati sul processo a 28 nanometri, impiegati in smartphone, elettrodomestici e componentistica automotive. È con i DUV, spinti oltre le loro specifiche nominali con tecniche di multipatterning, che SMIC è riuscita a produrre chip avanzati come il Kirin 9000S di Huawei, dimostrando che anche in assenza dell’EUV la frontiera tecnologica non è del tutto invalicabile.
Nel 2025 la Cina è stata il mercato più importante di ASML in termini di fatturato, con una quota pari al 33% dei ricavi totali, quasi interamente generata da sistemi DUV. Quella quota è scesa al 19% nel primo trimestre del 2026, riflettendo sia le restrizioni già in vigore sia l’anticipazione di ulteriori misure di protezione.
Il MATCH Act: la seconda stretta
Il quadro normativo si è irrigidito ulteriormente nell’aprile 2026. Il 2 aprile un gruppo bipartisan di legislatori americani ha introdotto il Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act, il MATCH Act, un disegno di legge bipartisan presentato al Congresso USA nel 2026, che punta a vietare le esportazioni di sistemi DUV a immersione verso la Cina e a spingere i paesi alleati, Paesi Bassi e Giappone in testa, ad allineare i propri controlli sulle esportazioni agli standard americani entro 150 giorni. Il disegno di legge ha superato la commissione Foreign Affairs della Camera il 22 aprile 2026, in quello che alcuni membri della commissione hanno descritto come uno dei passaggi più rilevanti degli ultimi anni sul fronte dei controlli all’export. Non è ancora legge, ma la direzione di marcia è inequivocabile.
La portata del MATCH Act va oltre il semplice blocco delle nuove forniture. Secondo il testo circolato e le ricostruzioni pubbliche disponibili, la stretta potrebbe colpire anche parte della manutenzione e del supporto ai sistemi già installati in Cina. Questo è il punto che il dibattito pubblico tende a sottovalutare. Le macchine litografiche non sono apparecchiature statiche: richiedono calibrazione continua, aggiornamenti software, ricambi e assistenza tecnica in loco. Privare le fab cinesi del servizio post-vendita significa degradare progressivamente le capacità produttive dei sistemi già installati, senza bisogno di sequestrarli fisicamente. Gli analisti di Quilter Cheviot stimano che un ampio divieto sui DUV rappresenterebbe un impatto nell’ordine di pochi punti percentuali sui ricavi complessivi di ASML, considerando che i sistemi DUV rappresentano una quota rilevante delle vendite totali e che la Cina assorbe una parte importante di quel segmento.
L’accusa di Lutnick e la risposta olandese
Il 19 giugno 2026 la vicenda ha assunto toni da crisi diplomatica. ASML ha emesso una precisazione insolitamente esplicita: il gruppo afferma di non aver consegnato alla Cina né un sistema EUV completo né componenti specificamente sviluppati per sistemi EUV. La causa scatenante è stata una notizia di Bloomberg secondo cui il segretario al Commercio americano Howard Lutnick avrebbe espresso a ASML la preoccupazione che un sistema EUV o tecnologia correlata potesse essere arrivato in Cina in violazione delle restrizioni occidentali. Nessuna prova pubblica a sostegno di tale esportazione è stata presentata fino a oggi.
La difesa di ASML si basa anche su un argomento logistico difficilmente aggirabile. L’azienda sostiene di sapere sempre dove si trova ciascuno dei propri esemplari: le macchine restano collegate ai sistemi della casa madre, così che uno spostamento non autorizzato verrebbe rilevato quasi in tempo reale. Secondo la ricostruzione diffusa dall’azienda, i sistemi EUV operativi e quelli già dismessi risultano tutti tracciati e nessuno avrebbe mai transitato in territorio cinese. Un sistema EUV non sparisce in un pacco postale: occupa – come si è detto – quaranta container, venti camion o tre Boeing 747 cargo. Non è facile trasferire una macchina di tali dimensioni senza che nessuno se ne accorga. Il governo olandese, dal canto suo, ha mostrato resistenza alle pressioni americane, con il primo ministro che ha sollevato direttamente il dossier ASML in occasione di incontri alla Casa Bianca.
Il prototipo di Shenzhen
Mentre Washington e L’Aia litigano sulle macchine esistenti, la Cina lavora per rendere meno decisiva la dipendenza tecnologica dall’Occidente. Secondo diverse ricostruzioni circolate negli ambienti industriali e riportate da media internazionali, in un laboratorio ad alta sicurezza di Shenzhen, completato nei primi mesi del 2025 e ora in fase di test, sarebbe stato assemblato un primo prototipo di macchina EUV. Al progetto avrebbero contribuito anche ingegneri con esperienza maturata in aziende della filiera litografica globale, nell’ambito di un vasto sforzo di reverse engineering e sviluppo autonomo. Al cuore dell’iniziativa, secondo queste ricostruzioni, ci sarebbe Huawei, impegnata a coordinare una rete di istituti di ricerca e di imprese pubbliche e private con migliaia di ingegneri in un ambiente altamente compartimentato. Alcune fonti hanno descritto il progetto come la "versione cinese del Progetto Manhattan".
Il gap tecnologico rimane tuttavia sostanziale. Il sistema assemblato a Shenzhen, secondo quanto riportato, sarebbe riuscito a generare luce EUV con lunghezza d’onda di 13,5 nanometri usando un metodo a plasma prodotto da laser simili, nel principio, a quelli impiegati da ASML, ma che non sarebbero ancora in grado di proiettare quella luce su un wafer in modo industrialmente utile. I primi chip prototipali sono stati indicati in una finestra compresa tra il 2028 e il 2030, ma la replica di un sistema con oltre centomila componenti che devono funzionare con tolleranze estreme rappresenta una sfida che in Occidente ha richiesto decenni di sviluppo collaborativo. Generare luce EUV è un traguardo tecnico reale. Produrre chip funzionanti in volume è tutta un’altra cosa.
La posizione di ASML: un monopolio sotto pressione
Il bilancio 2025 di ASML si è chiuso con 32,7 miliardi di euro di ricavi, con previsioni per il 2026 comprese tra i 34 e i 39 miliardi. Il gruppo mantiene un monopolio di fatto nell’EUV e una posizione dominante nel DUV avanzato: le uniche alternative sono Nikon e Canon, che non producono però sistemi EUV e restano indietro nella fascia più alta del DUV. A maggio 2026 ASML ha firmato un memorandum d’intesa con Tata Electronics per fornire sistemi di litografia avanzata per un nuovo impianto da 300 mm a Dholera, in Gujarat, India: è questo un segnale della direzione verso cui si stanno spostando gli equilibri geografici della produzione.
Ma il monopolio non è immune dalla politica. Il MATCH Act, se approvato nella sua forma attuale o in una versione solo leggermente modificata, eliminerebbe l’ultimo grande segmento di business cinese ancora accessibile ad ASML. Washington, intanto, lavora anche a soluzioni alternative e a proprie opzioni strategiche nel campo delle sorgenti di luce avanzate. Lo stesso Dipartimento del Commercio che esercita pressione sugli alleati per stringere i controlli all’export è impegnato a rafforzare il posizionamento americano nelle tecnologie che potrebbero affiancare o, nel lungo periodo, sfidare l’architettura industriale dominata da ASML. La geopolitica dei semiconduttori, anche quando si esprime in linguaggio tecnico-normativo, resta una questione di potenza.
