In occasione dello SMTA Dallas Expo & Tech Forum, in programma il 7 aprile presso il Plano Event Center in Texas, KYZEN presenterà al pubblico tecnico il sistema Analyst2 RI, una piattaforma di monitoraggio della concentrazione chimica progettata per applicazioni di cleaning nei processi elettronici. La presenza in fiera sarà accompagnata da dimostrazioni e approfondimenti applicativi, con l’obiettivo di mostrare come il controllo in linea della chimica possa incidere direttamente sulla stabilità del processo e sulla qualità finale delle schede.
Il sistema Analyst2 RI
Il sistema Analyst2 RI si basa su una misura dell’indice di rifrazione tramite sensore ottico con elementi in zaffiro, scelta che risponde a esigenze tipiche degli ambienti produttivi: resistenza chimica, stabilità nel tempo e ridotta deriva della misura. L’indice di rifrazione viene utilizzato come parametro correlato alla concentrazione della soluzione di lavaggio, consentendo un monitoraggio continuo anche in presenza di variazioni di carico contaminante o evaporazione del solvente. A differenza di approcci più tradizionali, come la conducibilità o misure manuali a campione, questo metodo permette un controllo più diretto e in tempo reale della composizione del bagno, con implicazioni immediate sulla ripetibilità del processo.
Dal punto di vista del progettista di linea o del process engineer, il vantaggio principale risiede nella possibilità di mantenere la chimica entro finestre operative più strette, riducendo sia il rischio di sottopulizia (residui ionici, flussanti) sia quello di sovradosaggio, che impatta sui costi operativi e sulla gestione dei reflui. Il sistema è dichiarato compatibile con diverse tipologie di chimiche, incluse quelle di terze parti, il che lo rende integrabile in linee esistenti senza vincoli di fornitore.
Come funziona
Sul piano funzionale, Analyst2 RI integra strumenti di analisi direttamente a bordo, con visualizzazione in tempo reale dell’andamento della concentrazione e accesso a storici di processo. La disponibilità di log eventi configurabili e tracciabilità dei dati risponde a esigenze sempre più diffuse in ambito industriale, dove la documentazione dei parametri di processo è richiesta sia per il controllo qualità sia per audit di conformità. La possibilità di operare anche in modalità offline suggerisce un’architettura pensata per ambienti produttivi dove la connettività non è sempre garantita o dove si preferisce mantenere i dati localmente.
Dal punto di vista dell’integrazione, l’installazione è descritta come relativamente semplice, aspetto non secondario in linee di lavaggio già operative dove interventi invasivi su piping o layout possono comportare fermi macchina. In questo senso, un sistema di monitoraggio non intrusivo o facilmente inseribile nel circuito esistente rappresenta un elemento favorevole per l’adozione.
Analyst2 RI si inserisce nell’evoluzione della precedente famiglia Analyst, già diffusa con centinaia di installazioni, e riflette un orientamento sempre più marcato verso il controllo in linea dei processi chimici. In un contesto in cui la miniaturizzazione dei componenti e l’aumento della densità dei PCB rendono i processi di cleaning più critici, strumenti di misura affidabili e continui diventano parte integrante della progettazione di linea, non più un accessorio.
In sintesi, la proposta di KYZEN punta a colmare un’esigenza concreta nei processi di lavaggio elettronico: rendere misurabile e controllabile in tempo reale un parametro — la concentrazione chimica — da cui dipendono direttamente qualità, costi e stabilità del processo.
