Componenti -> Progettazione
- Il cerchio si chiude con Calibre In Route
- Affrontare le sfide di oggi con le tecnologie di domani
- Piattaforme per un rapido sviluppo
- Nuova release per vSure
- Product Lifecycle Management
- Uno innovativo strumento per simulare la progettazione
- Un futuro di sfide per l’Eda
- Più parallelismo per le applicazioni Matlab e Simulink
- Le nuove frontiere della litografia
- Soluzioni per l’analisi elettromagnetica full-wave 3D
- La piattaforma Nucleus Graphics e Linux
- Soluzione di simulazione per RF e microonde
- Per un rapido sviluppo dei contatori intelligenti
- Dal Belgio la nanoelettronica di domani
- C per i sistemi embedded
Calibre InRoute consente ai progettisti di utilizzare in modalità nativa i tool di verifica Calibre all’interno del sistema di place & route Olympus-SoC, per individuare e correggere gli eventuali problemi di produzione del silicio direttamente durante la fase di layout, cioè di implementazione fis
Prendendo spunto dall'evento organizzato da National Instruments la scorsa primavera, uno sguardo alle applicazioni presenti e future.
Future Electronics ha presentato la piattaforma di sviluppo ConnectNet Micro: si tratta dell’ultima novità nell’ambito delle schede di sviluppo stackable e proof-of-concept Future-Blox.
La versione numero 9.0 è stata recentemente lanciata da Mentor Graphics.
Le soluzioni PLM aiutano le aziende del settore dell'elettronica high tech a semplificare i processi, dall'idea alla concezione, dallo sviluppo agli approvvigionamenti, dalla produzione all'assistenza clienti.
È stato creato un nuovo strumento per simulare la progettazione da parte di Digi-Key insieme a Transim Technology e NXP Semiconductor
Per chi opera nell'Electronic Design Automation le sfide da affrontare sono molteplici: l'evoluzione verso circuiti a bassi consumi e bassa potenza, il passaggio a processi con geometrie sempre più ridotte e soprattutto la continua crescita dei progetti SoC. È questa la visione di Mentor Graphics.
The MathWorks introduce una nuova versione del Parallel Computing Toolbox che semplifica l'accesso a grandi serie di dati e accelera gli algoritmi di statistica e di comunicazione.
Asml introduce innovazioni nei sistemi litografici a 193 nanometri - integrando soluzioni sviluppate dalla divisione Brion - e presenta i nuovi apparati basati sull’ultravioletto estremo, pronti per l’impiego in produzione.
Mentor distruibuisce tool per l’analisi elettromagnetica 3D, soddisfacendo le necessità dei progettisti di prodotti elettronici industriali ad altissime performance.
La scheda EM Mini-Blox, proposta da Future Electronics a supporto del nuovo meter-on-a-chip di Freescale, offre una vasta gamma di interfacce di comunicazione e di sistema e un display Lcd per permettere un rapido sviluppo dei contatori di energia di prossima generazione.
Dalla litografia EUV ai nuovi semiconduttori, dal fotovoltaico low-cost ai microattuatori per applicazioni medicali: uno sguardo all’attività dell’istituto di ricerca Imec offre molte interessanti indicazioni sugli imminenti sviluppi delle tecnologie nano elettroniche.
C è il linguaggio di programmazione che nel tempo si è dimostrato più efficiente ed efficace per lo sviluppo dei sistemi embedded, essendo il linguaggio ad alto livello meno astratto rispetto alla macchina.
| 73 articoli in questa sezione | |||||||
|
|||||||
|
Successiva
