Mentor Graphics ha annunciato l'inizio di una collaborazione con Globalfoundries al fine di fornire ai rispettivi clienti un processo di riferimento per risolvere le complesse problematiche di verifica nello sviluppo di IC sotto i 28 nm. Il primo risultato di questa collaborazione vede la Library of Yield Detractors Patterns e l'innovativo processo di verifica DRC+ di Globalfoundries implementati nella piattaforma Calibre di Mentor che allarga così le sue potenzialità, oltre alla verifica equation-based e al Dfm, anche al design rule checking basato sul confronto di pattern. In questo modo i clienti avranno la possibilità di portare più velocemente in produzione i loro progetti, migliorando la comunicazione tra progettisti e personale di fonderia con il passaggio da una rappresentazione testuale delle geometrie ad una per immagini, create tramite Gui.
